薄膜パターンの形成方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法

Method for forming thin-film pattern, method for producing magneto-resistive effect element and method for manufacturing thin-film magnetic head

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a thin-film pattern having a fine pattern width with high accuracy without depending on the resolution limit of an aligner. <P>SOLUTION: This pattern-forming method comprises the steps of: forming a preliminary thin-film pattern (top face 2A and side face 2B) by selectively etching the thin film with the use of a mask pattern having an undercut part; forming an etching protection film so as to cover the top face 2A and side face 2B of the preliminary thin-film pattern; and forming the thin film pattern 7 (side face 2C) by selectively etching the preliminary thin-film pattern by using the etching protection film as a mask. A pattern width of the thin-film pattern 7 is determined on the basis of two side faces 2B and 2C which are formed through the two-step etching process. Besides, the pattern width of the thin-film pattern 7 is controlled on the basis of the width of the top face 2A and a tilted angle of the side faces 2B and 2C, with high precision. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
【課題】露光装置の解像限界に依存せずに、微小なパターン幅を有する薄膜パターンを高精度に形成することが可能な薄膜パターンの形成方法を提供する。 【解決手段】アンダーカット部を有するマスクパターンを使用して薄膜を選択的にエッチングすることによりプレ薄膜パターン(上面2A,側面2B)を形成し、引き続きプレ薄膜パターンの上面2Aおよび側面2Bを覆うようにエッチング保護膜を形成したのち、そのエッチング保護膜をマスクとしてプレ薄膜パターンを選択的にエッチングすることにより薄膜パターン7(側面2C)を形成する。2段階のエッチング工程を経て形成される2つの側面2B,2Cに基づいて薄膜パターン7のパターン幅が決定される。しかも、上面2Aの幅および側面2B,2Cの傾斜角度に基づいて薄膜パターン7のパターン幅が高精度に制御される。 【選択図】図7

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    US-7821732-B2October 26, 2010Tdk CorporationThermally assisted magnetic head having an asymmetric plasmon antenna and manufacturing method thereof
    US-8223611-B2July 17, 2012Tdk CorporationNear-field light generating element and method for forming the element